半導(dǎo)體制造
精新電源專注于半導(dǎo)體制造解決方案，例如沉積、蝕刻和離子注入工藝。借助我們的半導(dǎo)體制造生產(chǎn)解決方案，通過高度精確的電源、頻率調(diào)諧和多級脈沖實現(xiàn)先進(jìn)的等離子體工藝控制。
為了制造領(lǐng)先的集成電路 (IC)，需要采用新型工藝和材料來制造晶體管或存儲單元。由于特征尺寸不斷縮小，精度達(dá)到原子級別，必須做到極致的工藝控制。
精新電源深諳半導(dǎo)體制造行業(yè)發(fā)展趨勢。我們是蝕刻、沉積注入和退火等關(guān)鍵工藝電源和控制解決方案的國內(nèi)市場領(lǐng)導(dǎo)者。
您面臨的挑戰(zhàn)
- 對于薄膜沉積來說，從用于刻印集成電路規(guī)格的薄膜，到導(dǎo)電和絕緣薄膜，再到金屬薄膜，您的沉積工藝需要原子級別的精密控制，同時膜層的結(jié)構(gòu)、厚度、均勻性也必須達(dá)到高質(zhì)量。
- 對于四種類型的離子注入工藝（大電流、中電流、高能量和等離子體摻雜），能量純度、離子束角度控制和均勻性是關(guān)鍵變量。
- 在精細(xì)化工藝流程控制的時候也必須要兼顧生產(chǎn)效率和成本，這也給半導(dǎo)體生產(chǎn)流程帶來了更多更大的挑戰(zhàn)。
我們的解決方案與優(yōu)勢
- 精新電源提供多種輸出功率和頻率，并可實現(xiàn)微秒級的控制。讓您精確的控制生產(chǎn)中的每一個環(huán)節(jié)。
- 我們提供十多種脈沖波形穩(wěn)定輸出，精細(xì)的控制精度和速度，不但可滿足各類PVD沉積工藝的需求，還大大提升了工藝的可重復(fù)性。
- 得益于十?dāng)?shù)年在大型粒子加速器中沉淀出來的寶貴經(jīng)驗，精新離子注入電源可解決您在離子注入工藝中遇到的所有挑戰(zhàn)。
- 功率因數(shù)校正和全行業(yè)領(lǐng)先的電源效率可以大幅降低您生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的能源消耗成本。
